薄膜第131委員会

日本学術振興会・薄膜第131委員会主催の国際会議を以下のような概要で開催しました。

【第１７回酸化物エレクトロニクス国際会議】
    17^th International Workshop on Oxide Electronics (WOE-17)

• 開催期間：2010年9月19日(日)～22日(金)
• 開催場所：兵庫県淡路市　淡路夢舞台国際会議場
• 参加者数：185名[日本89名、国外96名(内スイス・米国・韓国・各15名、オランダ・ドイツ・イタリア・フランス・各6名、スペイン・台湾・各5名、イギリス・ノルウェー・各3名、カナダ2名、シンガポール・イスラエル・インド・中国・各1名)]及び同伴者13名
• 予算総額：11,000千円
  [独立行政法人日本学術振興会経費負担額2,216千円を含む]

本会議(WOE)は、酸化物エレクトロニクスに関連する基礎から応用まで幅広い分野の世界最先端の研究成果について発表及び議論することを目的とし、毎年開催されているものです。今回は日本（淡路島）が開催地となりました。今回も欧米諸国やアジアから世界的に著名な研究者が一堂に会し、機能性酸化物材料の物性に関する基礎学理の構築およびポストシリコンエレクトロニクス創成に向けた新規デバイス開発に関する多くの研究成果が発表され、活発な議論が行われました。参加国は16カ国総勢185名が参加し、すべてのセッションが大盛況でした。

会議初日(9/19)には、Welcome Receptionが開催されました。各国から約120名が参加し、大変有意義な懇親の場となりました。二日目（9/20）には、主にマルチフェロイック材料、酸化物ヘテロ構造に関する口頭発表およびポスター発表が行われ、会議三日目（9/21）には強相関酸化物、強誘電体、機能性酸化物デバイスに関する講演とポスター発表が行われました。ポスターセッションでは、優秀な発表を行った研究者４名に、優秀ポスター賞を授与しました（写真3）。また、会議三日目の夜には、Banquetが催されました。国内外の参加者150名以上が出席し、有意義な交流の場となりました。ポスターセッションやBanquetは特に学生やポスドク等の若手研究者にとって研究情報の交換の貴重な機会となったようで、本会議が契機となり、参加者同士で共同研究が開始されたというケースも数多くありました。最終日(9/22)には引き続き、強相関酸化物と強誘電体に関する講演が行われました。今回のWOEでも世界各国から参加者が集まり、最先端の議論が行われましたが、国内の研究グループからも注目すべき研究成果が多く発表されました。特に、日本が世界を牽引するワイドギャップ半導体や強相関電子系の分野を世界に大いにアピールすることができたと実感しています。次回のWOEは2011年秋にアメリカ合衆国で行われることが組織委員会で決まりました（開催都市は未定）。

このような国際会議を開催するに当たり、当初は131委員会としても開催準備の作業で戸惑うことも多かったのですが、日本学術振興会をはじめ各方面から多くのご協力をいただいたおかげで、成功裏に終えることができました。多くの第一線の研究者と議論する大変貴重な機会を得ることができたことは、今後の本委員会の活性化に貢献できたかと思います。さらに、国内外から多くの若手研究者が参加して交流を深めることができ、当該分野の将来の発展に資する国際会議となったと思われます。

最後に、この深刻な不況の中にもかかわらず、各社には「展示・広告」で多くのご援助をいただきました。ここに厚く御礼申し上げます。