学術の社会的協力・連携の推進

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国際シンポジウムの開催

「第７回新材料とデバイスの原子レベルキャラクタリゼーションに関する国際会議」

7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '09
(ALC'09)

マイクロビームアナリシス第141委員会

1. 概要

日本学術振興会・マイクロビームアナリシス第141委員会主催の標記の国際シンポジウムを以下のような概要で開催しました．

開催期間：2009年12月6日(日)～11日(金)
開催場所：米国ハワイ州マウイ島ウェスティン・マウイ・リゾート＆スパ．
参加者数：224名[日本152名、国外72名(内ドイツ23名，米国16名，オーストリア・スイス・スウェーデン各4名，韓国・フランス各3名，ベルギー・ニュージーランド・ポーランド・スペイン各2名，オーストラリア・カナダ・チェコ・香港・オランダ・ポルトガル・イギリス各1名)]及び同伴者46名．
著名な海外参加者：G. A. Somorjai (カリフォルニア大)，H. Ibach (ユーリッヒ)，N. Winograd (ペン州立大)，W.-D. Schneider (ローザンヌ理工科大)，H.-J. Freund (フリッツ・ハーバー研)，D.E. Newbury (米国標準研究所)，B. J. Griffin (ウェスタン・オーストラリア大)，H. Lichite (ドレスデン工科大)，E. Bauer(アリゾナ州立大)，C. S. Fadley (カリフォルニア大)．
予算総額：15,136千円[独立行政法人日本学術振興会経費負担額2,500千円を含む]．

2. 実施内容・成果および成果公開について

本シンポジウムには学振の代表として小林誠先生（2008年ノーベル物理学賞）にも特別プレナリー講演をしていただきました(写真1)．

写真1．小林誠先生の特別プレナリー講演

この特別講演では小林先生ご自身の仕事に対するご講演ならびにそれを証明した実験の内容についてお話しいただき，参加者にも大変好評で充実した講演会になりました．チュートリアル，プレナリー，招待講演，各セッションでの講演やポスターセッションもレベルが高いという評価を多くの参加者からいただきました．また9名の学生にstudent awardを授与し旅費の補助を行いました．講演発表内容を表1に示します．

表１　テーマと発表件数
・	チュートリアル	： 5
・	プレナリー	： 3
・	学生賞発表	： 9
・	ポスターセッション	：141
・	パネルディスカッション	： 1
・	スポンサーセッション	： 5
・	走査プローブ顕微鏡	： 5
・	マイクロビーム分析	： 5
・	2次イオン質量分析	： 19
・	3Dナノイメージング	： 6
・	表面イメージング	： 10
・	電子顕微鏡惑星応用	： 10
・	ナノ分光学	： 5
・	医学生物学	： 5
・	グラフェン	： 4
・	ナノ構造	： 5
・	磁性	： 6
・	理論	： 8

合計発表件数：252件

触媒研究で著名なG. A. Somorjai 先生と，超高分解能電子分光器の開発と応用で著名な H. Ibach先生のお二人をJSPS141委員会賞で表彰し141委員会名誉委員になっていただきました(写真2)．

写真2．越川141委員会委員長とSomorjai・ Ibach両先生，JSPS141賞の楯

日本から発送した荷物が着かないというトラブルがありましたが，各担当委員とウェスティン・ホテルの援助で乗り切ることができ無事終了致しました．国外の方々から「大変良い会議だった」という報告が多数届いています(写真3)．

写真3．集合写真

このような国際会議を開催する事は141委員会としても大きな負担を伴いましたが，国際的に活躍しておられる多くの第一線の研究者と接する大変良い機会を得ることが出来たことは本委員会の活性化に大いに貢献し，特に若手の研究者に対して大変刺激があったと思います．

本会議では講演者の発表論文をProceedings（736ページの冊子版ならびにWeb版およびUSBメモリー版）にまとめて参加者に配布・公開しました．この中から優れた論文が英国Wiley社のSurface & Interface Analysis誌と日本表面科学会発行のe-Journal of Surface Science and Nanotechnology誌に転載される予定です．この不況にもかかわらず各社には「冠セッション・展示・広告」で大変貴重なご援助をいただきました．厚く御礼申し上げます．

次回のALC’11は2011年5月にソウルでIUMAS (International Union of Microbeam Analysis Societies)の国際会議と同時開催することに決まりました．

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