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日本学術振興会賞

第9回(平成24年度)日本学術振興会賞の受賞者決定について

第9回（平成24年度）日本学術振興会賞受賞者

photo_大友　明
大友　明
（オオトモ　アキラ）
OHTOMO Akira


生年 1972年 出身地

神奈川県
現職 東京工業大学大学院理工学研究科　教授
（Professor, Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology）
専門分野 無機固体化学
略歴
１９９５年 東京工業大学工学部卒
１９９７年 東京工業大学大学院総合理工学研究科修士課程修了
１９９７年 日本学術振興会特別研究員-DC
２０００年 東京工業大学大学院総合理工学研究科博士課程修了
２０００年 博士（工学）の学位取得（東京工業大学）
２０００年 ルーセントテクノロジーベル研究所物理部門博士研究員
２００２年 東北大学金属材料研究所助手
２００７年 東北大学金属材料研究所助教
２００９年 東北大学金属材料研究所准教授
２００９年 東京工業大学大学院理工学研究科教授（現在に至る）
授賞理由
「高品質酸化物絶縁体界面での金属伝導」
(Metallic Conduction at Well-Defined Insulating Oxide Interface)
  金属酸化物はさまざまなエレクトロニクスへの応用が期待されているが、異なる酸化物の接合面では不純物や欠陥が多く形成され、広い領域にわたって乱れの少ない構造が不可欠な次世代高性能電子素子への応用は不可能であると考えられていた。
  大友明氏は、酸化物のイオン性を活かした独自のアイデアと膨大な試行の結果、原子レベルで平坦で欠陥を極限的に減らした酸化物界面の創製に成功し、これら超高品質酸化物界面において、絶縁体同士の接合で世界初の金属界面の実現や世界初の酸化物界面量子ホール効果の観測など、多くの新しい重要な性質を見出した。
  一連の研究は、ありふれた酸化物でも制御された界面を作れば、従来にない特性を発現できるという革新的概念を与え、酸化物界面エレクトロニクスという新分野を創成したパイオニア的研究として高く評価できる。大友氏のこの分野に対する主導的な貢献が期待される。

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