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荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会
   
   
 

趣旨・目的

 

 電子およびイオンから成る荷電粒子ビームは、その優れた制御性から、超微細加工、材料改質、機能薄膜形成、分析プローブとして常に最先端技術を先導してきており、半導体工業、金属工業、高分子工業等の産業界から常に関心と強い期待が持たれている。
 そこで、電気、機械、化学、材料に関連する工学・物理分野の研究者が連携し、委員会として荷電粒子ビームの基礎技術、装置技術に関する研究、ならびに、それらの工業への応用に関する研究を推進し、この関係分野の大幅な進展に資することを目的としている。

   
 

研究テーマ

 
  1. 次世代リソグラフィ技術に関する研究
     ①マルチナノ電子線源によるテラドット描画技術の研究
     ②UV、イオンビーム微細露光技術の研究
  2. ナノビーム技術に関する研究
  3. 次世代イオンビーム応用(生体適合性材料開発、超浅接合形成など)の研究
  4. 新しい電子ビーム光学系に関する研究
  5. 人材育成ならびに国際交流に資する活動
   
 

委員長

 
臼井 博明 東京農工大学 大学院工学研究院 教授
   
 

設置年月

 

昭和37年2月 〜

   
 

委員の構成(平成29年4月現在)

 
学界 24名 産業界 20名 委員総数 44名
   
 

委員会のホームページ

 

http://www.rs.tus.ac.jp/jsps132/

   
 

活動状況報告

 
27年度
26年度
   
   
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