平成１４年度日本学術振興会未来開拓学術研究推進事業研究成果報告書概要


産学協力研究委員会名 　 マイクロビームアナリシス第１４１委員会
　
研究プロジェクト名 　 光電子スペクトロホログラフィーによる原子レベルでの表面・界面３次元構造評価装置の開発
　
（英文名） 　 Development of Analytical Instruments for 3D Atomic Structure Determination of Surface and Interface by Photoelectron Spectro-Holography
　
研究期間 　 平成１０年度〜平成１４年度

プロジェクト・リーダー名 研究経費 総額　 ５３４，６９８千円
氏名・所属研究機関
所属部局・職名		 二瓶好正
東京理科大学・理工学部・教授		 内訳 平成１０年度 １０９，１７０千円
平成１１年度 １１３，９２７千円
平成１２年度 １５３，４３７千円
平成１３年度 １０４，１６４千円
平成１４年度 ５４，０００千円

１．研究組織

氏名 所属機関・部局・職 研究プロジェクトでの役割分担
志水隆一 大阪工業大学・情報科学部・教授 強力X線光源開発・評価・測定システム評価　(平成13年4月1日から)
大島忠平 早稲田大学・理工学部・教授 大口径高角度分解能アナライザー開発・3次元原子像再構成アルゴリズム実証・薄膜実験
尾張真則 東京大学・環境安全研究センター・教授 大口径高角度分解能アナライザー開発・収束イオンビーム加工技術開発・反応性ガス精密加工断面仕上げ技術開発
石井秀司 東京大学・生産技術研究所・助手 装置開発・評価・検証実験総括
越川孝範 大阪電気通信大学・工学部・教授 強力X線光源開発・新要素技術検討
河合 潤 京都大学・工学部・教授 3次元原子像再構成アルゴリズム開発
圦本尚義 東京工業大学・理学部・助教授 大口径高角度分解能アナライザー・検出器開発
一村信吾 産業総合研究所・極微プロファイル計測研究ラボ・ラボ長 ニーズ検討
本間芳和 NTT基礎研究所・先端デバイス研究部・主幹研究員 ニーズ検討
福島 整 物質材料研究機構・超微細構造解析グループ・主席研究員 ニーズ検討
宇高 忠 理学電機工業(株)・第三研究部・部長 強力X線光源開発(平成12年3月31日まで)
大森真二 日本学術振興会研究員 3次元原子像再構成理論の開発・実証・薄膜実験　(平成13年3月31日まで)
程 朝暉 日本学術振興会研究員 収束イオンビーム加工技術開発(平成11年10月1日〜平成12年3月31日)
岡野達雄 東京大学・生産技術研究所・教授 大口径・高角度分解能アナライザー評価(平成12年4月1日から)
坂本哲夫 東京大学・環境安全研究センター・助教授 収束イオンビーム加工技術開発 (平成12年4月1日から)
白木 将 日本学術振興会研究員 電子レンズ設計・大口径・高角度分解能アナライザー開発・装置評価(平成12年4月1日〜平成13年3月31日)
原田仁平 理学電機(株)・X線研究所・所長 強力X線光源開発・評価(平成12年4月1日から)
田口雅美 アルバック・ファイ(株)・技術部・部長 大口径・高角度分解能アナライザー系開発・評価(平成13年4月1日から)
田村圭司 日本学術振興会研究員 薄膜作製装置評価・薄膜実験・理論(平成13年4月1日から)
渡邉邦洋 東京理科大学・理工学部・教授 装置評価およびニーズ検討(平成13年4月1日から)
CHU Wei-Guo 日本学術振興会研究員 薄膜作製装置評価・薄膜実験・理論(平成13年12月1日から)
安江常夫 大阪電気通信大学・工学部・助教授 ニーズ検討　(平成14年4月1日から)
冨安文武乃進 東京大学・環境安全研究センター・助手 ニーズ検討・モルフォロージー検討(平成14年5月1日から)

２．研究計画の概要

　研究計画は前半3年間のスペクトロホログラフィー分析手法と装置開発研究ならびにその性能評価の部分と、後半2年間の実用試料を用いた応用研究への展開の二つにわかれる。
　平成10年度は、主要測定装置の基本設計や試料作製・処理装置の試作、スペクトロホログラフィーのためのアルゴリズムの理論的検討を中心に進める。
　平成11年度は、主要装置のうちマルチエネルギー強力X線光源を試作するとともに、前年度の検討をもとに高能率・高角度分解能光電子アナライザー部分の詳細設計を行う。また、本年度および前年度試作した試料作製装置により作製した試料に対して、3次元原子像再構成アルゴリズムの実験的検討を行う。
　平成12年度は、前半3年間のまとめの年度であり、高能率・高角度分解能光電子アナライザーの試作を行うとともに今まで試作開発してきた各要素技術を結合して、総合的測定解析システムを構築する。この装置自身のシステム評価や解析手法の評価を行い、後半2年間での実用材料への応用研究・評価への基盤を確立する。
　平成13年度、14年度では試作した測定解析システムを用いて、様々な試料への応用および評価を行う。13年度ではダイナミックス測定、14年度は高速光電子測定への適用を考える。また放射光への展開も見据える。

３．研究目的

　本プロジェクトは「光電子スペクトロホログラフィー」、すなわちさまざまな励起光源による高機能化された光電子回折・ホログラフィー、という新原理の実用化の観点から、特に装置化に重点を置き、薄膜界面や表面の３次元原子構造・状態の精密評価を目指す。具体的には以下の通りである。
1. 回転対陰極X線管を用いたマルチエネルギー強力X線光源の開発・装置化
2. 高能率・高角度分解能電子アナライザーの開発・装置化
3. 上記1,2および薄膜試料作製装置，試料精密加工，仕上げシステムを組み合わせた光電子スペクトロホログラフィーの総合的測定評価システムの構築
4. 複数の励起光による光電子放出パターンを巧みに組み合わせたホログラフィー解析法の開発・実用化
5. モデル試料および実用材料への応用

４．研究成果の概要

４−１　研究計画、目的に対する成果
1.回転対陰極X線管を用いたマルチエネルギー強力X線光源の開発・装置化
　 　第2世代放射光と同程度の1010-11cpsの強度を有するマルチエネルギー強力X線光源を開発した。
2.高能率・高角度分解能電子アナライザーの開発・装置化
　 　従来より一桁高い0.04°の世界最高の角度分解能をもつ、回折面アパチャーレンズシステムによる高角度分解能・高能率・高耐圧光電子アナライザーを開発した。
　180°偏向型トロイダルアナライザーによるエネルギー・極角分布同時検出システムを実用化した。
3.光電子スペクトロホログラフィー測定評価システムの構築
　 　上記装置に薄膜成長・STM表面測定装置を組み合わせた測定システムを構築した。
　収束イオンビームによる精密加工や反応性ガス精密仕上げなどの断面分析の実験的検討を行った。
4.複数の励起光による光電子放出パターンを巧みに組み合わせたホログラフィー解析法の開発・実用化
　 　前方散乱の影響を除く微分・差分光電子ホログラフィー法を開発し、世界で初めて歪みのない光電子ホログラフィーによる原子再生像を取得することに成功した。
5.モデル試料および実用材料への応用
　 　高輝度電子源のモデル表面や単原子薄膜系、金属/半導体界面系などの構造解析に本手法を応用した。
　埋もれた界面解析のための高速光電子測定については、現在検出器周りの最終調整中である。

４−２　研究計画、目的外の成果
　研究計画、目的外の成果としては以下の2つがあげられる。
　第1点は、1msオーダーでの高速高角度分解能光電子測定への応用があげられる。当初計画においてもダイナミック測定はあげられていたが、これは2次元同時検出を用いた1sオーダーでの測定であった。今回の高能率・高角度分解能アナライザーの検出器として、64chの高速並列1次元検出器を新たに開発したが、この検出器の性能評価実験の結果、その高速性能から上記のような研究が実現可能であることが明らかになった。このような高速測定により、従来は捉えることができなかった界面反応などを構造・化学状態面から詳細に追うことも可能となる。
　第2点は、蛍光X線を用いたホログラフィーによる原子像再生について実験的・理論的な検討を行った点である。特に相互作用の大きな光電子ホログラフィーと相互作用の小さい蛍光X線ホログラフィーとの詳細な比較は今後のホログラフィーの実験やアルゴリズムの検討ならびに将来の原子像再生ホログラフィー応用に関して重要な知見を与えることが期待できる。


４−３　研究成果の展望
　実験室に設置できるスタンドアローン型の装置として、光電子スペクトロホログラフィー装置が開発・装置化できた意味は非常に大きい。放射光などの大型施設なしで、専用装置として超薄膜や超微粒子等よりなる超微構造の試料を作製しつつ分析・解析できる装置、つまり、機能材料系の製造と評価を一体化し、プロセス評価をリアルタイムで行うことが可能な装置として、本装置が運用可能であることを示している。
　同時に各要素技術(光源・電子アナライザー・ホログラフィー理論)はそれぞれ単独でも各種領域に適用・応用が可能であり、その波及効果は非常に大きい。
　開発が先行したマルチエネルギー強力X線光源は、強度に特化した結果、第2世代の放射光並の1010-11cpsの強度を達成しており、研究室規模での放射光の利用、いわゆるフォトンラボラトリー、を可能とする点で注目を集めている。他の装置の光源としての適用も容易であり、特に放射光のヘビーユーザーからも装置作製の打診がある点からも本光源に対する期待の程は明らかである。
　また、回折面アパチャーレンズシステムを利用した高能率・高耐圧・高角度分解能光電子アナライザーは角度分解測定による検出ロスを究極まで押さえており、厳密な角度定義での高角度分解能測定が非常に容易に行える。同時に回折面を利用しているために試料回転時の位置ずれ等の影響を受けにくく、実試料に適用するのに最適である。また高耐圧化により高速光電子測定も可能であり、埋もれた界面や実試料での汚染層の下の構造・状態解析などにも応用可能である。
　また、微分・差分光電子ホログラフィー法は、電子ホログラフィーに特有の原子再生像の結合方向の歪みを世界で初めて排除した手法であり、基礎・応用の両面から注目されており、世界的に高く評価されている。
　また、収束イオンビームによる精密断面加工や反応性ガスによる精密仕上げなど固体中の任意断面の作成法についても3次元構造解析手段の検討により得られた結果であり、今後の産業界には必須のものとなると期待されている。


４−４　本事業の趣旨に鑑み、果たした役割
　未来開拓という点では以下のような成果が得られたと考えている。
　第1点は、若手研究者・若手技術者の育成である。本プロジェクトで開発した装置関連の要素技術は、各技術検討会などでの検討を通じて生み出されたものである。その際には、若手研究者(助手・ポスドク)が中心となり大学院学生も含めて、企業の若手技術者などと積極的に討論を行ってきた。またプロジェクトの実施レベルでの中心も彼らであり、これらの経験を通じて、「ものづくり」の経験を十分に有した将来の優秀な研究者・技術者の育成を実現できたと自負している。
　第2点は、新技術開発に伴う国内企業の技術力および産学協力体制の強化である。回転対陰極X線管は日本が誇る技術であり、表面分析用の電子アナライザーでも有力メーカーは多い。これらの分野で産学の共同研究の枠組みで、放射光並の強度を持つマルチエネルギー強力X線光源や世界最高の角度分解能を持つ光電子アナライザーを新たに開発したことにより、これらの国内メーカーの技術力をより高めるとともに、国際競争力を高めることができたと考えている。特にマルチエネルギー強力X線光源は研究室規模での放射光の利用、いわゆるフォトンラボラトリー、を可能とする点で画期的である。これはパートナーである理学電機(株)も21世紀への展望を拓くものとして全力を挙げてその開発に取り組んでおり、産学協力のモデルケースの一つであると確信する。
　第3点は、他の未来開拓プロジェクトなどとの連携による研究・開発の相乗効果である。141委員会では、我々のプロジェクトを含めて未来開拓プロジェクトとして、同時に3つのプロジェクト、「次世代超電子顕微鏡の開発」(平成8〜12年度)、「超コヒーレント電子ビームの開発」(平成11〜15年度)も同時に進行しており、特にZrO/Wなどの高輝度電子源での相互協力が行われている。本プロジェクトではこのモデル試料での動作温度での構造解析をも行っており、このような研究の連携により得られる相乗効果は大きい。また同時に本委員会を通しても同様な研究・開発の連携をさらに広い範囲でおこなっている。

５．キーワード

(1)光電子スペクトロホログラフィー (2)薄膜 (3)表面
(4)界面 (5)構造解析 (6)差分光電子ホログラフィー
(7)強力X線光源 (8)回折面アパチャー (9)高角度分解能測定

６．研究成果発表状況

A.学術雑誌論文（Journal Papers）
全著者名 論文名
H. Ishii, S. Shiraki, K. Tamura, W.-G. Chu, M. Owari, R. Shimizu, Y. Nihei Development of the Novel Instrument for X-ray Diffraction and Holography
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Rev. Lett. 10 2-3 ??? 2003(in press)

全著者名 論文名
K. Tamura, S. Shiraki, H. Ishii, M. Owari, Y. Nihei Highly Angular Resolved X-ray Photoelectron Diffraction from Solid Surfaces
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Rev. Lett. 10 2-3 ??? 2003 (in press)

全著者名 論文名
K. Takanashi, K. Shibata, T. Sakamoto, M. Owari, Y. Nihei ANALYSIS OF NONWOVEN FABRIC FIBER USING AN ION AND ELECTRON MULTIBEAM MICROANALYZER
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Interface Anal. ??? ??? ??? 2003 (in press)

全著者名 論文名
野島雅, 神田雄介, 戸井雅之, 冨安文武乃進, 坂本哲夫, 尾張真則, 二瓶好正 ナノビーム二次イオン質量分析(SIMS)装置の試作と評価
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
分析化学 52 3 179-186 2003

全著者名 論文名
Masashi Nojima, Yusuke Kanda, Masayuki Toi, Bunbunoshin Tomiyasu, Tetsuo Sakamoto, Masanori Owari and Yoshimasa Nihei Development and estimation of a nano-beam secondary ion mass spectrometry apparatus
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Bunseki Kagaku 52 3 179-186 2003

全著者名 論文名
Y. Nihei Determination of 3D atomic structure of surfaces and interfaces by photoelectron holography
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Interface Anal. 35 ??? 45-50 2003

全著者名 論文名
Y. Tanaka, M. Karashima, K. Takanashi, T. Sakamoto, M. Owari and Y. Nihei Development of a chemically assisted micro-beam etching system for three-dimensional microanalysis
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Applied Surface Science 203-204 ??? 205-208 2003

全著者名 論文名
M.Nojima, B.Tomiyasu, Y.Kanda, M.Owari and Y.Nihei Nano-scale SIMS analysis: the next generation in local analysis
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Applied Surface Science 203-204 ??? 290-293 2003

全著者名 論文名
K. Takanashi, M. Yoshida, T. Sakamoto, N. Ono, Y. Tanaka, M. Owari, Y. Nihei Elemental distribution analysis of positive electrode material for a nickel metal hydride battery
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Applied Surface Science 203-204 ??? 609-613 2003

全著者名 論文名
T. Sakamoto, K. Shibata, K. Takanashi, M. Owari, Y. Nihei Analysis of Surface Composition and In-5-ternal Structure of Flyash Particles Using an Ion and Electron Multibeam Microanlyzer
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Appl. Surf. Sci., 203-204 ??? 762-766 2003

全著者名 論文名
二瓶好正, 尾張真則, 石井秀司, 大森真二, 白木将 光電子スペクトロホログラフィー装置の開発
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
応用物理 71 4 401-407 2002

全著者名 論文名
Yoshimasa NIHEI Masanori OWARI Hideshi ISHII Shinji OMORI and Susumu SHIRAKI Development of photoelectron spectroholography: For investigating 3D atomic images of solid surfaces
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Oyo Butsuri 71 4 401-407 2002

全著者名 論文名
S. Omori, Y. Nihei, E. Rotenberg, J. D. Denlinger, S. D. Kevan, B. P. Tonner, M. A. Van Hove and C. S. Fadley Differential Photoelectron Holography: A New Approach for Three-Dimensional Atomic Imaging
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Phys. Rev. Lett. 88 ??? 55504-1 -55504-4 2002

全著者名 論文名
K.Araki, A.Yoshida, R.Shimizu, T.Nagatomi, S.Takahashi, Y.Nihei Monte Carlo simulation of x-ray generation and energy dissipation in a W/Cu target for optimum design of a high-power x-ray source
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf.InterfaceAnal. 33 ??? 376-380 2002

全著者名 論文名
石井秀司, 二瓶好正 光電子スペクトロホログラフィー
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
表面科学 22 12 774-780 2001

全著者名 論文名
Hideshi ISHII and Yoshimasa NIHEI Photoelectron Spectro-Holography
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Hyomenn-Kagaku 22 12 774-780 2001

全著者名 論文名
白木将, 石井秀司, 二瓶好正 光電子スペクトロホログラフィー装置の開発
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
表面科学 22 12 827-830 2001

全著者名 論文名
Susumu SHIRAKI, Hideshi ISHII and Yoshimasa NIHEI A Photoelectron Spectro-Holography Apparatus
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Hyomenn-Kagaku 22 12 827-830 2001

全著者名 論文名
S. Shiraki, H. Ishii, M. Amano, Y. Nihei, M. Owari, C. Oshima, T. Koshikawa, R. Shimizu Measurements of X-ray photoelectron diffraction using high angular resolution and high transmission electron energy analyzer
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Sci. 493 ??? 29-35 2001

全著者名 論文名
H. Ishii, S. Shiraki, S. Omori, N. Matsubayashi, M. Imamura, H. Shimada, Y. Nihei Surface Structure of Defected CaF2(111) Layers Studied by Scanned Energy Photoelectron Diffraction
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 114-116 ??? 451-454 2001

全著者名 論文名
S. Omori, Y. Nihei, E. Rotenberg, J. D. Denlinger, S. D. Kevan, B. P. Tonner, M. A. Van Hove and C.S. Fadley Imaging of Cu(001) atoms by a new differential approach to photoelectron holography
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 114-116 ??? 455-460 2001

全著者名 論文名
S. Shiraki, H. Ishii, Y. Nihei Development of a high-performance angle-resolving electron energy analyzer
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 114-116 ??? 1043-1048 2001

全著者名 論文名
S. Shiraki, H. Ishii, S. Owari, Y. Nihei Short time measurements of full-solid-angle Auger electron diffraction using a 180°deflection toroidal analyzer
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 114-116 ??? 1049-1054 2001

全著者名 論文名
S. Shiraki, H. Ishii, Y. Nihei Design of a high angle-resolving electron energy analyzer
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 113 ??? 199-205 2001

全著者名 論文名
野島雅, 冨安文武之進, 柴田俊男, 尾張真則, 二瓶好正 ナノスケールＦＩＢ ＳＩＭＳ装置の試作
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
表面科学 21 8 511-516 2000

全著者名 論文名
Masashi NOJIMA, Bunbunoshin TOMIYASU, Toshio SHIBATA, Masanori OWARI and Yoshimasa NIHEI Development of Nano-scale SIMS Apparatus
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Hyomenn-Kagaku 21 8 511-516 2000

全著者名 論文名
S. Omori, J. Kawai, Y. Nihei Numerical simulation of X-ray fluorescence holography from Ge(001)
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Phys. Soc. Jpn. 69 5 1263-1266 2000.

全著者名 論文名
S. Shiraki, H. Ishii, M. Owari and Y. Nihei Measurements of Auger Electron Diffraction by using a 180° Deflection Toroidal Analyzer
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Rev. and Lett. 6 ??? 585-590 1999

全著者名 論文名
S. Omori, A. Narimatsu, T. Suzuki and Y. Nihei Photoelectron Diffraction Study of the initial-stage of Growth of Cu on Ge(111)-c(2×8)
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Rev. and Lett. 6 ??? 1079-1083 1999

全著者名 論文名
S. Omori, T. Kozakai and Y. Nihei Epitaxial Growth of SrF2 on Ge(111)-c(2×8) as Studied by Photoelectron Diffraction and Holography
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Rev. and Lett. 6 ??? 1085-1089 1999

全著者名 論文名
T. Suzuki, S. Omori and Y. Nihei X-ray photoelectron diffraction study of discommensurate Cu/Ge(111)
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Surf. Sci. Lett. 440 ??? 881-886 1999

全著者名 論文名
冨安文武之進, 逆瀬川聡, 鳥羽貴光, 尾張真則, 二瓶好正 サブミクロンＳＩＭＳ法におけるshave-off深さ方向分解能の向上
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
表面科学 20 8 523-529 1999

全著者名 論文名
" Bunbunoshin TOMIYASU, Soh SAKASEGAWA, Takamitsu TOBA, Masanori OWARI and Yoshimasa NIHEI Improvement on the Shave-off Depth Resolution in a Submicron SIMS Analysis
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Hyomenn-Kagaku 20 8 523-529 1999

全著者名 論文名
白木将, 石井秀司, 尾張真則, 二瓶好正 エネルギー・角度同時検出の新型アナライザーを用いたオージェ電子回折測定
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
表面科学 20 7 452-457 1999

全著者名 論文名
S. Shiraki, H. Ishii, M. Owari and Y. Nihei Measurements of Auger electron Diffraction by Using a Novel Electrostatic Analyzer with the Simultaneous Detection of Energy and Angular Distribution
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Hyomenn-Kagaku 20 7 452-457 1999

全著者名 論文名
S. Omori and Y. Nihei Photoelectron Diffraction Intensity Calculation by Using Tensor LEED Theory
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Vac. Sci. Technol. A 17 ??? 1621-1625 1999

全著者名 論文名
S. Omori and Y. Nihei Disappearance of Element-Specific Kikuchi Bands from Fluoride Surfaces
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. Vac. Sci. Technol. A 17 ??? 1626-1629 1999

全著者名 論文名
S. Omori, H. Ishii and Y. Nihei Photoelectron Diffraction Study on the Epitaxial Growth of SrF2 on Ge(111)-c(2x8)
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Appl. Surf. Sci. 132 ??? 67 1998

全著者名 論文名
林好一, 河合潤, 早川慎二郎, 後藤俊治, 二瓶好正, 合志陽一 蛍光X線ホログラフィー
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
放射光 11 5 361-367 1998

全著者名 論文名
Kouichi HAYASHI, Jun KAWAI, Shinjiro HAYAKAWA, Shunji GOTO, Yoshimasa NIHEI and Yohichi GOHSHI Fluorescence X-ray Holography
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
J. of the Jpn. Soc. for Radiation Research, 11 5 361-367 1998.

全著者名 論文名
S. Omori and Y. Nihei Theoretical Studies of Element-specific Kikuchi-band Effects in X-ray　Photoelectron Diffraction
学術雑誌名 巻 号 ページ 発行年
Jpn. J. Appl. Phys. 37 7 4076-4081 1998

B.国際会議発表論文（International Conferences）
全著者名 論文名
H. Ishii, S. Shiraki, S. Omori, M. Owari, M. Doi, S. Kojima, E. Yamada, S. Takahashi, K. Tsukamoto, T. Koshikawa and Y. Nihei Development of the multi-energy X-ray generation system with higher intensity than that of synchrotron radiation for X-ray photoelectron diffraction measurements
会議名 開催場所 論文番号 ページ 発表年
the Second Conference of the International Union of Microbeam Analysis Societies 2000 (IUMAS2000) Kailua-Kona, Hawaii Inst. Phys. Conf. Ser. 165 139-140 2000

全著者名 論文名
M. Nojima, B. Tomiyasu, T. Shibata, M. Owari and Y. Nihei Development of nano-scale FIB SIMS apparatus
会議名 開催場所 論文番号 ページ 発表年
the Second Conference of the International Union of Microbeam Analysis Societies 2000 (IUMAS2000) Kailua-Kona, Hawaii Inst. Phys. Conf. Ser. 165 343-344 2000

全著者名 論文名
" B. Tomiyasu, M. Owari and Y. Nihei Highly reliable quantitative analysis with Ga-FIB SIMS measurement by simultaneous multi-element detection system
会議名 開催場所 論文番号 ページ 発表年
the Second Conference of the International Union of Microbeam Analysis Societies 2000 (IUMAS2000) Kailua-Kona, Hawaii Inst. Phys. Conf. Ser. 165 345-346 2000

C.著書（Books）
全著者名 書名
二瓶好正, 冨安文武乃進 地球環境調査計測辞典〜第1巻陸域編I〜(竹内均監修)
出版者名 出版場所 ISBN番号 ページ 発行年
フジ・テクノシステム ??? ??? 306-309 2002

全著者名 書名
Yoshimasa NIHEI and Bunbunoshin TOMIYASU ???
出版者名 出版場所 ISBN番号 ページ 発行年
??? ??? ??? 306-309 2002

全著者名 書名
二瓶好正 "技術者の能力開発〜240万技術者の飛躍を目指して〜"(日本工学会編)
出版者名 出版場所 ISBN番号 ページ 発行年
丸善 ??? ??? 232-246 2001

全著者名 書名
Yoshimasa NIHEI ???
出版者名 出版場所 ISBN番号 ページ 発行年
Maruzen ??? ??? 232-246 2001

D.特許等取得状況
特許等名称 発明者名
光電子測定方法及び光電子測定システム 二瓶好正, 尾張真則, 坂本哲夫, 石井秀司, 大森真二, 白木将, 成松啓博
権利者名 種類 出願番号 出願年月日 設定登録年月日
東京大学長 発明 特願2000-153250 平成12年5月24日 平成15年3月7日

特許等名称 発明者名
角度分解型入射レンズシステムを備えた電子分光器及び分光器を用いた分析方法 二瓶好正, 尾張真則, 坂本哲夫, 石井秀司, 大森真二, 白木将
権利者名 種類 出願番号 出願年月日 設定登録年月日
東京大学長 発明 特願2000-77003 平成12年3月17日 平成14年10月18日

特許等名称 発明者名
角度分解・リタ−ディング独立動作型入射レンズシステムを備えた電子分光器及び分光器を用いた分析方法 二瓶好正, 尾張真則, 坂本哲夫, 石井秀司, 大森真二, 白木将
権利者名 種類 出願番号 出願年月日 設定登録年月日
東京大学長 発明 特願2000-77070 平成12年3月17 平成14年10月18日

特許等名称 発明者名
回折面アパチャ−透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器及びこの分光器を用いた分析方法 二瓶好正, 尾張真則, 坂本哲夫, 石井秀司, 大森真二, 白木将
権利者名 種類 出願番号 出願年月日 設定登録年月日
東京大学長 発明 特願2000-77071 平成12年3月17日 平成14年10月18日

特許等名称 発明者名
収束イオンビームによる精密断面加工を用いた深さ方向元素分布分析方法及びその装置 二瓶好正, 尾張真則, 冨安文武乃進
権利者名 種類 出願番号 出願年月日 設定登録年月日
東京大学長 発明 特願平11-357438 平成11年12月16日 平成14年4月19日

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