| １．研究機関名 | 大阪大学 | |
| ２．委員会名 | 半導体界面制御技術第154委員会 | |
| ３．研究期間 | 平成8年度〜平成12年度 | |
| ４．研究プロジェクト番号 | 96R15401 | |
| ５．研究プロジェクト名 | ダイヤモンドによる次世代電子エミッターの開発 |
| プロジェクト・リーダー名 | フリガナ | 所属部局名 | 職名 |
| 伊藤 利道 | イトウ トシミチ | 大学院工学研究科 | 教授 |
７．コア・メンバー
８．研究協力者
| 研究協力者名 | フリガナ | 所属研究機関名・所属部局名 | 職名 |
| 平木 昭夫 | ヒラキ アキオ | 高知工科大学・連携研究センター | 教授 |
| 小林 猛 | コバヤシ タケシ | 大阪大学・大学院基礎工学研究科 | 教授 |
| 八田 章光 | ハッタ アキミツ | 高知工科大学・電子・光システム工学科 | 助教授 |
９．研究成果の概要
|
本プロジェクトでは、気相合成ダイヤモンドの電子エミッター材料としての可能性を様々の角度から検討した結果、以下のことが判明した。水素吸着ダイヤモンドの表面構造や負性電子親和力及び酸素吸着によるその変化の要因を明らかにするとともに水素プラズマ処理したダイヤモンドに特有な表面伝導層の電気的特性を詳細に調べ、これらの性質を活用することにより、全く異なる2つの型、すなわち、ダイヤモンド自体に高電界を印加するダイオード型と、真空に電界を印加する電界放射型の平面電子エミッターを作製することに成功した。前者の場合、CVDダイヤモンドの高絶縁化、薄膜積層化及び微細化プロセスの開発により、高絶縁性ダイヤモンド薄膜中に高電界（＝107 V/cm オーダー）を印加できるようになり、ほぼ100%の効率（駆動電流に対する放出電子電流比）の電子放出特性を有するダイオード型電子エミッターを試作した。この高効率動作機構は、キャリアの高電界下におけるインパクトイオン化機構に基づく伝導帯への電子励起により説明され、モンテカルロ法によるシミュレーションにより理論的にも裏付けられた。また、高電界印加可能な高絶縁性（高品質）ダイヤモンドを従来の成長速度（＝1μm/h）を保ちながら作製できるマイクロ波プラズマCVDプロセスを開発した。他方、後者の場合には、大面積化や低温作製プロセスにも対応できる超微粒子ダイヤモンドが最適な形態の一つで、10 V/μm以下の低い平均電界強度でも放射電子電流が得られ、1 mA/cm2以上の放射電流密度が得られる電界放射型電子エミッターを試作した。 |
１０．キーワード
(1)電子エミッター、(2)CVDダイヤモンド、(3)高絶縁性ダイヤモンド
(4)超微粒子ダイヤモンド、(5)負性電子親和力、(6)ダイオード型電子エミッター
(7)水素終端表面、(8)平面型電子エミッター、(9)電界放射型電子エミッター
１１．研究発表（印刷中も含む）
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Yagyu | Intrinsic and Implantation-Induced Defects in CVD Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Physica Status Solidi (a) | 154 | 1996 | 305-320 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kita | Transient Cathodoluminescence Spectroscopy of Synthetic Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 6･3 | 1996 | 139-145 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Nishiwaki | Heteroepitaxy of GaS and GaSe on Diamond and GaAs Surfaces | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 6･3 | 1996 | 147-156 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| J. H. Won | Effect of Boron Inclusion on the Quality of Chemical Vapor Deposited Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 6･3 | 1996 | 171-180 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kobayashi | Prospect of Semiconducting Diamond Electronics | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 6･4 | 1996 | 199-216 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Miyake | Effect of Oxygen Additive on Microwave-Plasma for Diamond Film Synthesis Studied by Plasma-Impedance-Measurement | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 35･7B | 1996 | L936-939 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Suzuki | Observation of Capacitance Hunching at the Flat-Band-Voltage in Boron-Doped Diamond Metal/Insulator/Semiconductor Structure | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 35･8B | 1996 | L1081-L1084 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Yagi | Hydrogen and Deuterium Profile in Homoepitaxially Grown CVD Diamonds by ERDA Method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B | 118 | 1996 | 318-321 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kita | Electron-Beam Electroreflectance Spectroscopy of Semiconductors | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 35･10 | 1996 | 5367-5373 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 八田章光 | ダイヤモンド表面物性の評価・制御と電子エミッターの応用 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 真空 | 39･11 | 1996 | 618-625 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hatta | Diamond Film Growth by Pulse-Modulated Magnetoactive Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Thin Solid Films | 281-282 | 1996 | 264-266 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Makita | Ultrahigh Particle Density Seeding with Nanocrystal Diamond Particles | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Thin Solid Films | 281-282 | 1996 | 279-281 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Electron Microscopic Analysis of Chemical-Vapour Deposited Diamond Surface by a Novel Method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Thin Solid Films | 281-282 | 1996 | 282-284 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| J. H. Won | The Investigation of Defect Formation in Chemical Vapor Deposited Diamond Using Photoluminescence by Ultraviolet Synchrotron Radiation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Physics Letters | 69･27 | 1996 | 4179-4181 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Suzuki | Control of the Plasma and Measurement of Radicals for Diamond Film Synthesis in Vapor Phase | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proceedings of 13th Symposium on Plasma Processing | AP962301 | 1996 | 57-60 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| J. H. Won | Photoluminescence Properties of CVD Diamond Excited by Ultra-Violet Synchrotron Radiation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Materials Research Society Symposium Proceedings | 423 | 1996 | 717-722 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hiraki | Low-Temperature CVD of Diamond and NEA Surface of Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proceedings of the International School of Physics "Enrico Fermi | 1997 | 179-193 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Sonoda | Effect of Nitrogen Incorporation on Electrical Properties of Boron-Doped Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Physics Letters | 70･19 | 1997 | 2574-2576 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Interfacial Analysis of CVD Diamond on Copper Substrates | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 6 | 1997 | 743-746 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| J. H. Won | Effects of Remote Hydrogen Plasma Treatment (RHPT) on Ion-Implanted CVD Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 6 | 1997 | 1041-1046 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 八田章光 | ダイヤモンド気相合成における基板バイアスによる核発生過程 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 電気学会プラズマ研究会資料 | EP-97-5 | 1997 | 23-28 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 平木昭夫 | 負性電子親和力ダイヤモンド半導体 ―ディスプレイ材料としての可能性― | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 応用物理 | 66･3 | 1997 | 235-241 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Yagi | Initial Stage of Bias-Enhanced Diamond Nucleation Induced by Microwave Plasma | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 36･4B | 1997 | L507-L510 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 伊藤利道 | 平面ディスプレイ用電子放出素子としてのCVDダイヤモンド | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 応用物理学会結晶工学分科会 107回研究会テキスト | 1997 | 31-36 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 八田章光 | 気相合成ダイヤモンドの電子デバイスへの応用 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 表面科学 | 18･6 | 1997 | 356-361 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Shirakawa | Hall Effect Measurement and Band Bending Calculation of Hydrogenated Diamond Thin Films Grown by Chemical Vapor Deposition | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 36･6 | 1997 | 3414-3417 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Surface State Density Distribution of Semiconducting Diamond Films Measured from Al/CaF2/I-Diamond Metal-Insulator Semiconductor Diodes and Transistors Deposition | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Applied Physics | 82･7 | 1997 | 3422-3429 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Investigation of Distribution of Defects and Impurities in Boron-Doped CVD Diamond Film by Cathodoluminescence Spectroscopy | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Thin Solid Films | 308-309 | 1997 | 279-283 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. M. Jeon | Large Area Diamond Nucleation on Si(001) Using Magnetoactive Microwave Plasma CVD | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 113-114 | 1997 | 244-248 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| J. H. Won | Remote Hydrogen Plasma Treatment (RHPT) of Ion Implanted CVD Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 113-114 | 1997 | 249-253 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Structural Analysis of Ion-Implanted Chemical-Vapor-Deposited Diamond by Transmission Electron Microscope | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 113-114 | 1997 | 254-258 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Thin Film CaF2 Stabilizing Effect on Single-Crystal Diamond Surface | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 117-118 | 1997 | 570-573 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Kawamura | Cathodoluminescence Measurement of CVD Diamond Surface | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 117-118 | 1997 | 578-581 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Yamamoto | Surface Observation of Beta SiC Substrate after Negative Bias Treatment in Diamond Deposition | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 117-118 | 1997 | 582-586 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Interface Characterization of Chemical-Vapour-Deposited Diamond on Cu and Pt Substrates Studied by Transmission Electron Microscopy | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 117-118 | 1997 | 587-591 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hatta | Electron Emitter Device of NEA Diamond Thin Film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 117-118 | 1997 | 592-596 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 牧哲朗 | ダイヤモンド薄膜 ―ハードエレクトロニクス半導体の開拓― | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 材料 | 47･3 | 1997 | 221-226 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hatta | Electrical Properties of Boron-Doped Diamond Films Grown under the Control of Nitrogen Incorporation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Super Carbon | 1998 | 151-154 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yokota | Observation of Ultraviolet Cathodoluminescent Band from Boron-Doped Diamond Film Grown Epitaxially on Platinum Single Crystal | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Super Carbon | 1998 | 235-241 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hatta | Low Temperature Chemical Vapor Deposition | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Handbook of Industrial Diamonds and Diamond Films | 27 | 1998 | 887-899 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. B. M. O. Islam | Surface Modification of B-Doped Diamond Films by GaS | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･4 | 1998 | 271-280 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Tanaka | Electrical Stabilization of Diamond MIS Interface by Employing BaF2 Gate Insulator Crystal | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･4 | 1998 | 281-288 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yokota | Temperature Dependence of 248 nm Cathodoluminescence Band from Heavily Boron-Doped Diamond Films Epitaxially Grown on Platinum | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･5 | 1998 | 347-354 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kita | Band-Edge Structure of Diamond Films Grown on Silicon | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･5 | 1998 | 355-360 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Electrical Stabilization of Diamond Film Surface for Electronic Device Application | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･5 | 1998 | 361-368 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Nitrogen Doping Effects on Electrical Properties of Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 37･10A | 1998 | L1175-L1177 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Electrical Stabilization of Diamond MIS Interface and MISFETs by Ultrahigh-Vacuum Process | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Materials Research Society Symposium Proceedings | 512 | 1998 | 217-222 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| M. Nishimura | Highly Efficient Electron Emission Diode of Single-Crystalline Chemical-Vapor-Deposition Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 37･9A/B | 1998 | L1011-L1013 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Investigation of Surface of Boron-Doped CVD Diamond by Cathodoluminescent Spectroscopy | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 7 | 1998 | 748-752 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 伊藤利道 | 単結晶ダイヤモンド膜からの高効率電子放出 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 電気学会 金属・セラミックス研究会資料 | MC-98-10 | 1998 | 51-54 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yokota | Edge Emission Observedin Heavily Boron-Doped Diamond Films Epitaxially Grown on Platinum | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Physics Letters | 73･11 | 1998 | 1493-1495 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Electrical Properties of Al/CaF2/I-Diamond Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect-Transistor Fabricated by Ultrahigh-Vacuum Process | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 37･11A | 1998 | L1293-L1296 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Hosomi | Role of Xenon Additive in Microwave Plasma-Assisted (H2+CH4) Chemical Vapor Deposition for Diamond Thin Film Growth | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Applied Physics | 84･11 | 1998 | 281-288 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Koide | Field Emission Characteristics of Non-Doped Polycrystalline Diamond Films Synthesized by MPCVD | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･6 | 1998 | 407-413 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Crystalline and Electrical Characteristics of N-Doped Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･6 | 1998 | 457-466 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Fine-Structure Study on First-Order Diamond Raman Line of CVD Diamond Particles | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond Films and Technology | 8･6 | 1998 | 467-475 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Ito | Highly Efficient Electron Emission from Diode-Type Plane Emitters Using Chemical-Vapor-Deposited Single-Crystalline Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Physics Letters | 73･25 | 1998 | 3739-3741 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Tanaka | Improved Stability of Metal-Insulator-Diamond Semiconductor Interface by Employing BaF2 Insulator Film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 37･12A | 1998 | L1444-L1447 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Hosomi | Role of Xenon Additive in Microwave Plasma-Assisted (H2+CH4) Chemical Vapor Deposition for Diamond Thin Film Growth | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Applied Physics | 84･11 | 1998 | 6059-6063 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hatta | Electron Emission from Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Israel Journal of Chemistry | 38 | 1998 | 113-120 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 河村秀樹 | ダイヤモンド薄膜表面のカソードルミネッセンスによる評価 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 電気学会論文誌 A | 118 | 1998 | 1011-1014 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Maki | Present Research Status of Semiconducting Diamond Devices | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proceedings of the Electronics, Information and System Conference, IEE of Japan | 7 | 1998 | 15-16 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 伊藤利道 | ダイヤモンドによる次世代電子エミッターの開発 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 生産技術誌 | 51･1 | 1999 | 63-66 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| M. Nishimura | Highly-Efficient at Electron Emitter of Single-Crystalline CVD Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 7 | 1999 | 754-758 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Yagi | Surface Hydrogen Densities of Variously Treated CVD Diamond Surfaces | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 137 | 1999 | 50-56 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 全炯敏 | 有滋場マイクロ波プラズマ気相合性装置内に付着した炭素薄膜の酸素プラズマによるエッチング | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 真空 | 42･3 | 1999 | 217-220 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hatta | Electrical Properties of B-Doped Homoepitaxial Diamond Films Grown from UHP Gas Sources | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 8 | 1999 | 1470-1475 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yokota | Cathodoluminescence of Boron-Doped Heteroepitaxial Diamond Films on Platinum | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 8 | 1999 | 1587-1591 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Kawamura | Fabrication and Characterization of Planar Diamond Electron Emitters | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 38･4B | 1999 | 2622-2625 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Electrical Properties of Al/(BaXCa1-X)F2/i-Diamond Metal-Insulator-Semiconductor Structures | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 38･4B | 1999 | 2626-2629 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yun | Highly Improved Electrical Properties of Diamond Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect-Transistor Prepared by Ultrahigh Vacuum Process | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 38･4B | 1999 | 2640-2645 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| M. Shimomura | Crystallinity Evaluation of Phosphorus-Doped N-Type Diamond Thin Film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Applied Physics | 85･7 | 1999 | 3931-3933 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Electrical Properties of Surface Conductive Layers of Homoepitaxial Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Applied Physics | 85･12 | 1999 | 8267-8273 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 伊藤利道 | ダイヤモンド表面からの電子放出-ディスプレイへの応用を目指して- | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 表面技術 | 50･6 | 1999 | 16-21 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. M. Jeon | Effect of Oxygen Component in Magnet-Active Microwave CH4/He Plasma on Large-Area Diamond Nucleation over Si | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 38 | 1999 | 4500-4503 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Fabrication of Ohmic Contacts to Buried Diamond Layers Using Pt Layer in the Diamond Chemical-Vapor-Deposition Process | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Physics Letters | 75 | 1999 | 1920-1922 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Sumitomo | Fabrication of Diamond Films by Microwave Plasma CVD at Low Hydrogen Concentration | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Transactions of the Materials Research Society of Japan | 25･1 | 2000 | 305-308 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. B. M. O. Islam | Interface Formation between GaS and CVD Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Surface Science | 448 | 2000 | 1-10 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Chemical-Vapor-Deposited Diamond Overgrowth on Platinum Thin Films Deposited on Diamond Substrates | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 39･3A | 2000 | 1286-1290 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Ito | Properties of Electron Emitting Diode Fabricated with Single-Crystalline Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Material Research Society Symposium Proceedings | 558 | 2000 | 105-110 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Kawamura | Fabrication of Planar Diamond Electron Emitters for Flat Panel Displays | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Material Research Society Symposium Proceedings | 558 | 2000 | 155-160 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Maki | Electronic Properties of Diamond Thin Film for Planar Diamond Electron Emitter Applications | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 159-160 | 2000 | 583-587 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. B. M. O. Islam | Characterization of GaS-Deposited CVD Diamond Films by AES & XPS | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 159-160 | 2000 | 588-593 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Maki | X-Ray Photoelectron Spectroscopy Characterization of Diamond Thin Film Surfaces for Electronic Device Application | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 39･6B | 2000 | L575-L578 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| M. Yokoyama | Dependence of the Electron Affinity of Homoepitaxially Grown CVD Diamond on the Amount of Surface Oxygen | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 162-163 | 2000 | 457-463 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Ito | Improved Stability of Metal-Insulator-Diamond Semiconductor Interface by Employing CaF2/Thin BaF2 Composite Insulator Film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 39･8 | 2000 | 4755-4756 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Ito | Highly Efficient Electron Emitting Diode Fabricated with Single-Crystalline Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 9 | 2000 | 1561-1568 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Growth and Characterization of Hillock-Free High Quality Homoepitaxial Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 9 | 2000 | 1650-1654 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 八田章光 | プラズマCVD法による高品質ダイヤモンドの合成 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Plasma and Fusion Research | 76 | 2000 | 833-841 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kita | Optical Characterization of Synthetic Diamond Films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proceedings of the International Sosiety for Optical Engneering | 4086 | 2000 | 535-539 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. M. Jeon | Nucleation-Enhancing Treatment for Diamond Growth over a Large Area Using Magnetoactive Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Applied Physics | 88･5 | 2000 | 2979-2983 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Hosomi | Enhanced Diamond Film Growth by Xe-Added Microwave Plasma CVD | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Thin Solid Films | 368 | 2000 | 269-274 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Kono | Surface Order Evaluation of the Heteroepitaxial Diamond Film Grown on an Inclined β-SiC(001) | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 39 | 2000 | 4372-4373 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | High-Quality Homoepitaxial Diamond Films Grown at Normal Deposition Rates | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 40･3A | 2001 | L212-L214 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Kono | UHV μ-Electron Evaluation of the CVD Diamond Particles Grown on Si(001) | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 10 | 2001 | 48-58 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Endo | Recovery Treatments for Ion-Induced Defects in High Quality Homoepitaxial CVD Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Diamond and Related Materials | 10 | 2001 | 322-326 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Kono | Secondary-Electron and Field-Emission Spectroscopy / Microscopy Studies of CVD Grown Diamond Particles | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Surface Science | 2001 | in press | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| B. S. Satyanarayana | Filed Emission from Heterostrustured Cathodes Made of Nanoseeded Diamond and Nanodlustered Carbon | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Materials Research Society Symposium Proceedings | 621 | 2001 | in press | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Murakami | Photoemission Properties and Surface Structure of Homoepitaxially Grown CVD Diamond (100) Surfaces | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 2001 | in press | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. M. Lee | Properties of Thin MgO Films Grown on Single-Crystalline CVD Diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 2001 | in press | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| A. Hiraki | Eletron-Emitter Fabricated at Low Temperature by Diamond-Nano-Seeding Technique | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Applied Surface Science | 2001 | in press | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Jiang | Characterization of N-Doped Diamond Films by Transmission Electron Microscopy | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Journal of Crystal Growth | 2001 | in press | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. L. Wang | Boron-Doped Diamond Film Homoepitaxially Grown on High-quality Chemical-Vapor- Deposited Diamond (100) | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Japanese Journal of Applied Physics | 2001 | in press | ||