| 1.研究機関名 | 東京大学 | |
| 2.研究領域 | 理工 | |
| 3.研究分野 | 次世代プロセス技術 | |
| 4.研究期間 | 平成8年度〜平成12年度 | |
| 5.研究プロジェクト番号 | 96P00404 | |
| 6.研究プロジェクト名 | 異種材料の可逆的インターコネクション |
| プロジェクト・リーダー名 | フリガナ | 所属部局名 | 職名 |
| 須賀 唯知 | スガ タダトモ | 先端科学技術研究センター | 教授 |
8.コア・メンバー
| コア・メンバー名 | フリガナ | 所属研究機関名・所属部局名 | 職名 |
| 岸 輝雄 | キシ テルオ | 東京大学・先端科学技術研究センター | 教授 |
| 市野瀬 英喜 | イチノセ ヒデキ | 東京大学・大学院工学系研究科 | 助教授 |
| 細田 直江 | ホソダ ナオエ | 東京大学・大学院工学系研究科 | 助教授 |
9.研究協力者
| 研究協力者名 | フリガナ | 所属研究機関名・所属部局名 | 職名 |
| Ulrich Egger | ウルリッヒ エッガー | 東京大学・先端科学技術研究センター | リサーチアソシエイト |
| 鄭澤龍 | チョン テクリョン | 東京大学・先端科学技術研究センター | リサーチアソシエイト |
| 朴永朝 | パク ヨンジョ | 東京大学・先端科学技術研究センター | リサーチアソシエイト |
10.研究成果の概要
|
本研究は、金属−セラミックス、半導体などの異種材料を常温で直接接合したり、これを逆に分離したりすることができる可逆的インターコネクションの新しい概念を提案し、その実現化手法を確立することを目的として行った。従来の材料の複合化技術は接合のみに視点をおいているがこれに対して、新しい概念はこれを分離することを前提にしたインターコネクション技術である。本研究では可逆的インターコネクションの具体的手法として、「表面活性化による直接接合」と「界面反応制御による分離」という手法を組み合わせることにより、常温での直接接合と可逆的分離を実現化した。これは常温接合といういわば理想的な界面形成手法と可逆的分離との組み合わせという点からも全く新しいアイデアである。もう一つの具体例として水素吸蔵合金を用いた分離手法を提案し、実際にそれが可能であること、またそのための条件を具体的に示した。 可逆的インターコネクションの為の新しい異種材料界面設計手法の体系化を目的として、超高分解能電子顕微鏡を使った原子レベルでの界面観察と非破壊検査・破壊力学手法を用いて評価を行い、界面結合低下のメカニズム、マクロな破壊のメカニズムを明らかにした。 |
11.キーワード
(1)可逆的インターコネクション、(2)常温接合、(3)分離
(4)界面、(5)界面設計、(6)破壊
(7)水素、(8)透過電子顕微鏡、(9)環境
12.研究発表(印刷中も含む)
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 細田直江, 楊柳、京極好孝、須賀 唯知 | 分離を前提とした接合 : 可逆的インターコネクション | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 回路実装学会誌 | 11-7 | 1996 | 510-513 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Takagi, K. Kikuchi, R. Maeda, T. R. Chung and T. Suga | Surface activated bonding of silicon wafers at room temperature | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Appl. Phys. Lett. | 68-16 | 1996 | 2222-2224 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Zhang, H. Ichinose, M. Nakanose, K. Ito and Y. Ishida | Transmission electron microscopic observation of grain boundaries in CVD diamond thin films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| JOEL News | 32E | 1996 | 16-19 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Zhang, H. Ichinose, K. Ito, Y. Ishida and M. Nakanose | Grain boundary structure and growth sequence of diamond thin film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Electron Microscopy | 45 | 1996 | 436-441 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Zhang, H. Ichinose, Y. Ishida, K. Ito and M. Nakanose | Atomic and electonics structures of grain boundary in chemical vapor deposited diamond thin films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Material Science Forum | 204 | 1996 | 207-214 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Zhang, H. Ichinose, K. Ito and M. Nakanose | HRTEM and EELS analysis of asymmetrical Σ3 CSL boundaries in CVD diamond films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Mat. Res. Soc. Symp. Proc | 416 | 1996 | 355-360 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| K. Kato, T. Ichimori, H. Ichinose, K. Ito and Y. Ishida | HRTEM study of segregation at grain boundary in Al | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. JIMIS-8 | 1 | 1996 | 213-216 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Ichimori, T. Kato, H. Ichinose, K. Ito and Y. Ishida | HRTEM analysis of Pz/ZnO metal/ceramic interface | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. JIMIS-8 | 1 | 1996 | 253-256 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose, Y. Zhang, K. Ito, Y. Ishida and M. Nakanose | Grain boundary structure and growth sequence of diamond thin film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. JIMIS-8 | 1 | 1996 | 225-228 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kizuka, H. Ichinose and Y. Ishida | Structure and hardness of nanocrystalline silver | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Japan Inst. Metals | 61-4 | 1997 | 319-325 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| K. Kohyama, H. Ichinose, Y. Zhang, Y. Ishida and M. Nakanose | Tight-binding calculation of the {211}Σ=3 boundary in diamond | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Materials Sci | 32 | 1997 | 1051-1057 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ishinose, Y. Zhang, Y. Ishida, K. Ito and M. Nakanose | Application of spatially resolved EELS on atomic structure determination of diamond grain | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. 13th Int. Symp. On Plasma Chemistry | 3 | 1997 | 1094-1099 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| L. Yang, N. Hosoda and T. Suga | Investigation on the interface microstructure of stainless steel/aluminum joints created by the surface activated bonding method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Interface Science | 5 | 1997 | 279-286 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Hosoda, L. Yang and T. Suga | Reversible interconnection-an approach to debonding joined material at the bonded interface, ASME EEP | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Advances in Electronic Packaging | 19-1 | 1997 | 307-312 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. R. Chung, N. Hosoda, H. Takagi and T. Suga | 1. 3 μm InGaAs/InP lasers on GaAs substrate fabriccated by the surface activated wafer bonding method of room temperature | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Applied Physics | 72-13 | 1997 | 1565-1566 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 高木秀樹、前田龍太郎、須賀唯知 | アルゴンビームエッチングによるシリコンの常温無加圧接合 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 電気学会論文誌 | 117-E-8 | 1997 | 420-425 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. R. Chung, L. Yang, N. Hosoda and T. Suga | Room temperature GaAs-Si and InP-Si wafer direct bonding by the surface activated bonding method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Nuclear Instruments and Methods in Physics Research | B121 | 1997 | 203-206 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Akatsu, G. Sasaki, N. Hosoda and T. Suga | Microstructure and strength of Al-sapphire interface by means of the surface activated bonding method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Mater. Res. | 12-3 | 1997 | 852-856 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Suga, Y. Ishii and N. Hosoda | Microassembly system for integration of MEMS using the surface activated bonding method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| IEICE Trans. Electron | E80-C | 1997 | 297-302 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| L. Yang, N. Hosoda and T. Suga | TEM investigation of the stainless steel / aluminum interface created by the surface activated bonding method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Nuclear Instruments and Methods in Physics Research | B121 | 1997 | 519-523 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 須賀唯知、実重研一、藤本淳 | 解体性の定量的評価の一考察 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 回路実装学会誌 | 12-1 | 1997 | 34-40 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 市野瀬英喜、中之瀬恩 | ダイヤモンド粒界の原子構造と電子構造 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 日本金属学会誌 | 62 | 1998 | 15-21 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Yoshiike, H. Adachi, H. Ichinose, K. Tokumitsu, H. Ino and K. Siratori | Structure of melt-quenched Pr-Fe alloys and anaysis of the manetization based on super-ferromagnetism | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Philosophical Magazine | 77-6 | 1998 | 1461-1469 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. hoh, T. Kondo, T. Ishiwada, C. Iwamoto, H. Ichinose, H. Yaguchi, T. Usami, Y. Shiraki and R. Ito | Sublattice reversal in GaAs/Si/GaAs(100) heterostructures by molecular beam epitaxy, materials transactions | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| JIM | 39 | 1998 | 102-109 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose and M. Nakanose | Atomic and electronic structure of diamond grain boundaries analyzed by HRTEM and EELS | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Jpn. J. Appl. Phys. | 37 | 1998 | L1493-1496 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Zhang, H. Ichinose, M. Nakanose, K. Ito and Y. Ishida | Structure modelling of Σ3 and Σ9 coincident boundaries in CVD diamond thin films | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Thin Solid Films | 319 | 1998 | 87-91 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda and T. Suga | Si/Si interface bonded at room temperature by Ar beam surface activation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Intergranular and Interphase Boundaries in Materials | 1998 | 341-344 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Takagi, R. Maeda, T. R. Chung and T. Suga | Low-temperature direct bonding of silicon and silicon dioxide by the surface activation method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Sensors and Actuators | A70 | 1998 | 164-170 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Hosoda, T. Akatsu, J. Chu and T. Suga | The effect of the surface roughness on room temperature bonding of metals to ceramics | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Advances in Science and Technology | 15 | 1998 | 1091-1096 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda and T. Suga | Effect of surface roughness on room-temperature wafer bonding by Ar beam surface activation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Jpn. J. Appl. Phys. | 37 | 1998 | 4197-4203 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Suga | UHV room temperature joining by the surface activated bonding method | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Advances in Science and Technology | 15 | 1998 | 1079-1089 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Suga | Recent progress in surface activated bonding | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Ceramic Microstructure | 1998 | 385-389 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. R. Chung, N. Hosoda and T. Suga and H. Takagi | InGaAsP lasers on GaAs fabricated by the surface activated wafer direct bonding method at room temperature | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Jpn. J. Appl. Phys. | 37 | 1998 | 1405-1407 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| N. Hosoda, Y. Kyogoku and T. Suga | Effect of the surface treatment on the room-temperature bonding of Al to Si and SiO2 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Material Science | 33-1 | 1998 | 253-258 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 市川聡、市野瀬英喜、伊藤邦夫 | Ag/Feナノ結晶合金の組織と変形機構 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| まてりあ | 37 | 1999 | 1007 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 市野瀬英喜 | 結晶界面 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 粉体及び粉末治金 | 47 | 1999 | 412-416 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Yamada-Takamura, O. Tsuda, H. Ichinose and T. Yoshida | Atomic-scale structure at the nucleation site of cubic boron nitride deposited from the vopor | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Electron Microscopy | 48 | 1999 | 245-251 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Kon, T. Kno, M. Ebara, T. Ishiwada, H. Sawada, H. Ichinose, I. Shoji and R. Ito | GaAs/Ge/GaAs sublattice reversal epitaxy on GaAs(100) and (111) substrates for nonlinear optical devices | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Physical Review | 59 | 1999 | 10351-10355 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Ichikawa, K. Miyazawa, H. Ichinose and K. Ito | The microstructure of deformed nanocrystalline Ag and Ag/Fe alloy | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. J. Appl. Phys. | 38 | 1999 | L508-511 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose, H. Sawada, E. Takuma and M. Osaki | Atomic resolution HVEM and environmental noise, | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Nano Structure Materials | 11 | 1999 | 1301-1311 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| C. Iwamoto, H. Ichinose and S. Tanaka | Atomic observation at the reactive wetting front on SiC | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Electron Microscopy | 48 | 1999 | 887-891 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| B. S. Xu, H. Ichinose and S. Tanaka | Twistangle dependence of Josephson Junction effect measured in the [001] twist boundary of Bi2Sr2CaCu20x super conductor | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Phil. Mag. | 79 | 1999 | 85-95 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| W. Wang, H. Matsuhata, T. Takahashi, Y. Ishida, H. Okumura, S. Yoshida, H. Sawada and H. Ichinose | Characterization of surface step on heteroepitaxial 3C-SiC thin films by TEM | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Material Science Forum | 294-6 | 1999 | 263-268 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Sawada, H. Ichinose, D. Takeuchi and H. Okushi | A cross-sectional HRTEM study of particle defects in an epitaxial diamond film | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. Microsc. Semcond. Mater. Conf. | 1 | 1999 | 331-334 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Satsuki, T. Hayashi, M. Akaishi, K. Miyazawa, H. Ichinose and K. Ito | Microstructure of C60/Nanotube composites produced under high pressure | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. Inst. Phys. Conf. | 164 | 1999 | 235-238 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Kuzumaki, O. Ujiie, H. Ichinose and K. Ito | Mechanical characteristics and preparation of carbon nanotube fiber-reinforced Ti composite | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. JIMIC-3799 | 1 | 1999 | 1243-1246 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda and T. Suga | Room-temperature bonding of Si wafers to Pt films on SiO2 or LiNb03 substrates using Ar-beam surface activation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Jpn. J. Appl. Phys. | 38 | 1999 | 1559-1561 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Akatsu, N. Hosoda, T. Suga and M. Ruhle | Atomic structure of Al/Al interface formed by surface activated bonding | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| J. Materials Science | 34 | 1999 | 4133-4139 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda and T. Suga | Room-temperature bonding of lithium niobate and silicon wafers by argon-beam surface activation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Appl. Phys. Lett. | 74-16 | 1999 | 2387-2389 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 朴永朝、榎学、須賀唯知、岸輝男 | Al/サファイア表面活性化常温接合体におけるAlの塑性変形能と接合面積率の関係 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 日本金属学会誌 | 63-12 | 1999 | 1485-1489 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Takagi, R. Maeda, N. Hosoda and T. Suga | Transmission electron microscope observation of Si/Si interface bonded at room temperature by Ar beam surface activation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Jpn. J. Appl. Phys. | 3-A | 1999 | 1589-1594 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 市野瀬英喜 大崎光明 | HVEMの超高分解能とその周辺技術 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 電子顕微鏡 | 55 | 2000 | 265-268 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 市野瀬英喜 | 超高圧電子顕微鏡-世界1の高分解能を実現したテクノロジーに迫る | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 材料科学 | 37 | 2000 | 105-110 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose | Una Iente di quattro piani | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Newton | 4 | 2000 | 108-115 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| Y. Ishida, H. Ichinose, T. Kizuka and K. Suenaga | High-resolution electron microscopy of interfaces in nanocrystalline materials | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Oggi Nnewton | 6 | 2000 | 130-137 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| S. Koh, T. Kondo, T. Ishiwada, H. Ichinose, I. Shoji and R. Ito | Characterization of sublattice-reversed GaAs by reflection high energy electron diffraction and transmission electron | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Advanced Engineering Materials | 2 | 2000 | 416-418 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose, H. Sawada and E. Takuma | Atomic resolution TEM analysis of grain boundaries in covalent bonding materials | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Physica E | E7 | 2000 | 876-880 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose and M. Saito | Change in atomic bonding due to hydrogeno-bonding into MgO/Pd interface | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. Advanced Materials 2000 | 1 | 2000 | 39-40 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| H. Ichinose | Crystal interface and high-resolution electron microscopy-the best partner | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Proc. Electronics Goes Green 2000+ | 2000 | 335-338 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| B. S. Xu, L. Lu, X. G. Zhao, H. S. Jia, W. Liang, S. I. Tanaka and H. Ichinose | Migration and bonding of Pt nanoparticles by electron beam irradiation | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| Science & Technology of Advanced Materials | 1 | 2000 | 11-20 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| T. Suga and N. Hosoda | Active disassembly and reversible interconnection | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 2000 IEEE | 2000 | 330-334 | ||
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 朴永朝、榎学、須賀唯知、岸輝雄 | Al/サファイヤ常温接合体の引張り特性および界面欠陥成長の有限要素法による解析 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 日本金属学会誌 | 64-8 | 2000 | 684-690 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 朴永朝、榎学、須賀唯知、岸輝雄 | Al/サファイヤ常温接合体における熱処理および接触変形による残留応力の破壊挙動への影響 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 日本金属学会誌 | 64-8 | 2000 | 691-697 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 須賀唯知、大塚寛治 | 実装の新しい可能性 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| エレクトロニクス実装学会誌 | 3-7 | 2000 | 621-626 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 朴永朝、榎学、須賀唯知、岸輝雄 | Al/サファイヤ常温接合体の界面欠陥成長に関する破壊力学的考察:はく離試験および有限要素法による解析 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| 日本金属学会誌 | 64-6 | 2000 | 444-450 | |
| 著者名 | 論文標題 | |||
| 細田奈麻絵、北岡史也、荒船龍彦、須賀唯知 | 可逆的インターコネクション-分離可能な接合法の開発 | |||
| 雑誌名 | 巻 | 発行年 | ページ | |
| エレクトロニクス実装学会誌 | 4・2 | 2001 | 142-144 | |
| 著者名 | 出版者 | ||
| 市野瀬英喜、大崎光明 | 共立出版 | ||
| 書名 | 発行年 | 総ページ数 | |
| 結晶解析ハンドブック | 2001 | 10 | |